EB計測ソフトウエア開発担当エンジニア
株式会社アドバンテスト
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Saitama
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1,001 to 10,000
Job Summary
ナノテクノロジー事業本部では前工程の最先端のフォトマスクを測定するEB計測製品（CD-SEM,DR-SEM)を開発しており、下記のソフトウエアの開発および保守を行っていただきます。 本ポジションでは、フォトマスクのパターン計測装置および欠陥レビュー装置を制御するソフトウェア開発を担当していただきます。 下記のような半導体製造の最先端の市場要求に応えるべく、 ・精密装置を制御するソフトウェア ・測定データを扱うアルゴリズム設計 ・画像処理／AIを用いた解析技術 を組み合わせ、実際の製造現場で使われる製品ソフトウェアの開発に携わっていただきます。 自らの技術が、次世代半導体の性能と品質を支える、大きなやりがいと成長を実感できるポジションです。 半導体は、スマートフォンやAI、データセンター、自動運転など、あらゆる先端技術を支える基盤です。その半導体製造において、EUV露光装置をはじめとする最先端の露光技術の性能を左右する重要な要素が、「フォトマスク」と呼ばれる原版です。近年、半導体の高性能化に伴い、フォトマスク上のパターンは極限まで微細化・高密度化が進み、曲線を含む非常に複雑な形状（Curvilinearパターン）が主流となっています。その結果、従来では対応できない高精度かつ高スループットな計測技術が求められています。また、フォトマスク上の微小な欠陥や異物は、製品不良や歩留まり低下に直結するため、欠陥の自動レビュー、画像処理、AI、元素分析技術へのニーズも急速に高まっています。Company Info
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