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プロセス技術・デバイス技術(新規3Dメモリインテグレーション技術開発)

キオクシア株式会社

  • 給与額 ⁨¥⁩⁨550万⁩ 〜 ⁨1260万⁩
  • 勤務地 三重県
  • 会社従業員数 10名以下

仕事内容

【採用背景】 新規メモリの事業化・市場参入を目指して開発中の酸化物半導体を用いた3Dメモリの開発力強化のための募集になります。 【組織のミッション】 部門ミッション:高速メモリデバイスの研究開発フェーズを担当し、デバイス検証と製品開発フェーズへの移管を実行 グループミッション:新規3Dメモリの研究開発、デバイス検証、製品開発フェーズへの移管 【お任せする業務】 3Dメモリのロット試作フローの構築、デバイス検討ロットの試作と形状および電気特性評価、不良解析と試作フローの改善。 【具体的な仕事内容】 成膜・リソグラフィー・エッチングなどを担当するユニットプロセス開発部門のエンジニアと密接に連携しながら、酸化物半導体を用いた新規3Dメモリの電気特性を評価するためのロット試作フローを構築していただきます。その環境を用いて、デバイス検討ロットの試作、電気特性評価、不良解析のサイクルを回し、プロセスフローの改善やプロセス条件の最適化を進めてデバイスの完成度を高める業務を担当していただきます。

会社情報

キオクシア株式会社は、NAND型フラッシュメモリやSSDの開発・製造・販売を主軸とする日本の半導体メーカーです。旧東芝メモリ株式会社から社名変更し、メモリ技術の先駆者として世界トップクラスのシェアを有しています。

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